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蘇州工業(yè)園區(qū)諾泰盈電子有限公司
主營：專業(yè)從事EMI材料/絕緣材料/緩沖泡棉材料/散熱型材料
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顯影液組成成分的作用與顯影液的配方
普通顯影液有時也稱為通用顯影液，其特點是具有中等活性，配制顯影液，即可用于沖洗底片感光材料，又可用于沖洗正片感光材料。普通顯影液的使用溫度為18-20°C，用新制備的溶液沖洗底片材料為6一9分鐘，而沖洗正片材料為4分鐘。在此種顯影液的成分中，包含顯影物質(zhì)(通常是用兩種顯影物質(zhì)相配合)5-10克/升，亞硫酸鈉2040克/升，杭州顯影液，碳酸堿(蘇打或碳酸鉀)15-30克/升及化鉀1—5克/升。
蘇州工業(yè)園區(qū)諾泰盈電子有限公司是一家從事EMI材料/絕緣材料/緩沖泡棉材料/散熱型材料及各種雙面膠材料深加工的企業(yè)。
主要產(chǎn)品有：導(dǎo)光膜/銅鋁箔/導(dǎo)電雙面/導(dǎo)電布/鈹銅彈片/吸波材/導(dǎo)電泡棉/PET/PP/PE/EVA/CR/PORON/RUBBER/硅膠片及各種相面膠帶材料的模切加工。
顯影液用途
通過對各組分不同用量的調(diào)配可以得到不同性能的顯影液，顯影液溶劑，如微粒顯影液、高反差顯影液等。工業(yè)上說的顯影劑，是針對半導(dǎo)體晶片而言。系列有顯影劑、光刻膠等。
常見問題
a、顯影不完全（Incomplete Development）。表面還殘留有光刻膠。由顯影液不足造成。
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顯影液組成成分的作用與顯影液的配方
甘氨酸是作用極慢的，可洗出軟影調(diào)低反差的底片，能夠很好地表現(xiàn)陰影部位上的細(xì)部，顯影液配制，而灰霧度很小。甘氨酸可用作制備微粒顯影用平衡顯影液。甘氨酸不易溶于水，而易溶于堿性溶液中。長期以來，一直使用休貝爾濃縮液， 這是甘氨酸顯影液的濃縮溶液，很易于貯存。甘氨酸常被 用來與米吐爾、二酚及菲尼酮配合使用。
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第7年
