電感耦合等離子體質(zhì)譜儀廠家

選擇適合特定分析任務(wù)的 ICP-MS 質(zhì)譜儀時，需要考慮以下因素：

元素分析范圍：ICP-MS 質(zhì)譜儀可以分析從 Li 到 U 的元素，但不同型號的 ICP-MS 質(zhì)譜儀可以分析的元素范圍不同。因此，在選擇 ICP-MS 質(zhì)譜儀時，需要考慮分析任務(wù)中需要分析的元素范圍。

分辨率：ICP-MS 質(zhì)譜儀的分辨率是指能夠分離相鄰質(zhì)量數(shù)的離子的能力。高分辨率可以提高分析的精度和準確度，但也會增加儀器的成本和復(fù)雜度。因此，在選擇 ICP-MS 質(zhì)譜儀時，需要根據(jù)分析任務(wù)的需求來選擇合適的分辨率。

靈敏度：ICP-MS 質(zhì)譜儀的靈敏度是指能夠檢測到的濃度的元素。高靈敏度可以提高分析的精度和準確度，但也會增加儀器的成本和復(fù)雜度。因此，在選擇 ICP-MS 質(zhì)譜儀時，需要根據(jù)分析任務(wù)的需求來選擇合適的靈敏度。

穩(wěn)定性：ICP-MS 質(zhì)譜儀的穩(wěn)定性是指儀器在長時間內(nèi)保持分析性能的能力。穩(wěn)定性好的 ICP-MS 質(zhì)譜儀可以提高分析的精度和準確度，但也會增加儀器的成本和復(fù)雜度。因此，在選擇 ICP-MS 質(zhì)譜儀時，需要考慮其穩(wěn)定性是否滿足分析任務(wù)的需求。

接口：ICP-MS 質(zhì)譜儀的接口是指將樣品引入質(zhì)譜儀的裝置。不同的接口適用于不同的樣品類型和前處理方法，因此在選擇 ICP-MS 質(zhì)譜儀時，需要根據(jù)分析任務(wù)的需求來選擇合適的接口。

數(shù)據(jù)處理和分析軟件：ICP-MS 質(zhì)譜儀產(chǎn)生的數(shù)據(jù)需要進行適當?shù)臄?shù)據(jù)處理和分析，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀廠家，以獲得待測元素的濃度和同位素組成信息。不同的 ICP-MS 質(zhì)譜儀配備的數(shù)據(jù)處理和分析軟件也不同，因此在選擇 ICP-MS 質(zhì)譜儀時，需要考慮其配備的軟件是否滿足分析任務(wù)的需求。

總之，選擇適合特定分析任務(wù)的 ICP-MS 質(zhì)譜儀需要綜合考慮分析任務(wù)的需求。

這些干擾要有效識別和消除 ICP-MS 質(zhì)譜儀中的干擾，可以采取以下一些方法

干擾校正方程：通過建立干擾校正方程，利用已知的干擾元素和目標元素的關(guān)系，對干擾進行校正。

內(nèi)標法：使用內(nèi)標元素來監(jiān)測和校正信號的變化，以補償基體效應(yīng)和其他干擾。

碰撞/反應(yīng)池技術(shù)：利用碰撞/反應(yīng)池來去除或降低多原子離子、分子離子等干擾。

選擇合適的質(zhì)量數(shù)：避免選擇受到嚴重干擾的質(zhì)量數(shù)，或者采用高分辨率質(zhì)譜儀來區(qū)分干擾和目標離子。

優(yōu)化儀器參數(shù)：調(diào)整射頻功率、離子源氣體流量等參數(shù)，以減少干擾的影響。

樣品前處理：適當?shù)臉悠非疤幚矸椒梢匀コ蓴_物質(zhì)，如稀釋、萃取、凈化等。

同位素比值測量：通過測量同位素比值，可以消除一些干擾的影響，并提供的分析結(jié)果。

質(zhì)量篩選：利用質(zhì)量篩選技術(shù)，只監(jiān)測特定質(zhì)量數(shù)范圍內(nèi)的離子，減少干擾的干擾。

數(shù)據(jù)處理方法：采用合適的數(shù)據(jù)處理軟件和算法，如背景扣除、平滑、校正等，來校正干擾。

標準加入法：通過添加已知濃度的標準物質(zhì)到樣品中，校正基體效應(yīng)和干擾。

識別和消除干擾需要綜合考慮多種方法，并根據(jù)具體的分析需求和樣品特點選擇合適的策略。同時，定期進行質(zhì)量控制和方法驗證也是確保干擾得到有效校正的重要步驟。

ICP-MS裝機量已在8000臺以上，僅中國目前每年的新增裝機數(shù)就超過500臺。近三年來，國際上ICP?MS 的主要生產(chǎn)商推出了若干型號的四極桿式ICP-MS，如Agilent在2012年推出的8800型號、2014年推出的 7900型號，PerkinElmer于2014年推出的Nexion350系列型號、ThermoFisher于2012年推出的iCap-Q系列型號， 2014年德國耶拿完成對布魯克ICP-MS生產(chǎn)線的收購，并于今年2月推出的PlasmaQuant系列型號，而我國鋼研納克推出了國產(chǎn)ICP-MS PlasmaMS

300 。

四極桿ICP-MS的基本結(jié)構(gòu)由進樣系統(tǒng)、離子源、錐及離子透鏡、四極桿分析器、真空系統(tǒng)和檢測器等硬件部

分組成（部分型號還包括用以消除干擾的反應(yīng)池部分），此外還包括用于冷卻系統(tǒng)、氣體管路、儀器控制和數(shù)據(jù) 分析系統(tǒng)等支撐輔助部分。下面我們按照ICP-MS的每一個結(jié)構(gòu)部分，看近年來的技術(shù)進展。