ZL205A微弧氧化膜層耐蝕性能研究
利用硅酸鹽復(fù)合電解液體系,鈦合金微弧氧化技術(shù),在ZL205A上采用微弧氧化法制備膜層。
所用的工藝參數(shù)為:恒流控制,電流密度3 A/dm^2,PEO技術(shù)微弧氧化,頻率500 Hz,終止電壓450 V。利用掃描電鏡對該膜層的形貌及結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析;對膜層的化學(xué)成分進(jìn)行分析;采用極化曲線評價膜層的耐蝕性。
結(jié)果表明:所制備的微弧氧化膜層能提高ZL205A的耐蝕性。
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