膜厚測量儀的磁感應測量原理

膜厚測量儀的磁感應測量原理主要基于磁通量與磁阻的變化關(guān)系來測定覆層厚度。當測量儀的測頭接近被測物體時，測頭會發(fā)出磁場，磁場會經(jīng)過非鐵磁覆層并流入鐵磁基體。在此過程中，磁通量的大小會發(fā)生變化，而這種變化與被測覆層的厚度密切相關(guān)。具體來說，覆層越厚，磁通量越小，因為較厚的覆層會對磁場產(chǎn)生更大的阻礙作用，導致磁通量減小。此外，測量儀還可以通過測定與磁通量對應的磁阻大小來表示覆層厚度。磁阻是描述磁場在介質(zhì)中傳播時所受阻礙程度的物理量，覆層越厚，磁阻越大。因此，通過測量磁阻的大小，也可以間接地得到覆層的厚度信息。這種磁感應測量原理使得膜厚測量儀能夠精確地測定導磁基體上的非導磁覆層厚度。同時，由于該方法不依賴于光學干涉或機械接觸，因此適用于各種不同類型的材料和薄膜，具有廣泛的應用前景。在實際應用中，膜厚測量儀的磁感應測量原理為工業(yè)生產(chǎn)和科研實驗提供了方便快捷的測量手段，有助于確保產(chǎn)品質(zhì)量和推動科技進步。